2026年第二屆激光、光學(xué)技術(shù)與應(yīng)用國(guó)際學(xué)術(shù)會(huì)議（LOTA 2026）將于2026年7月31日-8月2日在中國(guó)深圳召開。

激光、光學(xué)相關(guān)技術(shù)已廣泛應(yīng)用于國(guó)防、基礎(chǔ)設(shè)施等行業(yè)。近年來(lái)，隨著相關(guān)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，它已成為社會(huì)進(jìn)步的主要科學(xué)。LOTA 2026旨在打造一個(gè)國(guó)際性的學(xué)術(shù)交流平臺(tái)，匯集在激光、光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域工作的院士、科學(xué)家、工程師和研究人員，分享他們的專業(yè)知識(shí)、經(jīng)驗(yàn)和研究成果，并討論相關(guān)專業(yè)領(lǐng)域的挑戰(zhàn)和未來(lái)方向。

LOTA 2026歡迎來(lái)自相關(guān)研究領(lǐng)域的高質(zhì)量研究論文和報(bào)告。被錄用的論文將以會(huì)議論文集的形式發(fā)表，并提交給EI Compendex， Scopus索引。期待與您在中國(guó)深圳相聚！

【會(huì)議亮點(diǎn)】

1、出版檢索快&穩(wěn)定：IEEE出版，EI、Scopus穩(wěn)定檢索，見刊檢索快！重點(diǎn)推薦會(huì)議

2、征稿范圍廣：激光、光譜、雷達(dá)遙感、光伏、光通信、生物醫(yī)學(xué)光、光學(xué)材料、光學(xué)與光電等均可

3、版面費(fèi)優(yōu)惠、見刊檢索快、早鳥優(yōu)惠、學(xué)生優(yōu)惠；預(yù)計(jì)會(huì)后3-4個(gè)月見刊、刊后1-3個(gè)月檢索

2026年第二屆激光、光學(xué)技術(shù)與應(yīng)用國(guó)際學(xué)術(shù)會(huì)議（LOTA 2026）

2026 2nd International Conference on Laser, Optical Technology and Applications

時(shí)間地點(diǎn)：2026年7月31日-8月2日 中國(guó)·深圳 （線上同步）

大會(huì)官網(wǎng)：www.iclota.org 【參會(huì)投稿】

截稿時(shí)間：見官網(wǎng)多輪征稿，以官網(wǎng)為準(zhǔn)

審稿錄用：約3-5個(gè)工作日

會(huì)議檢索：提交EI、Scopus檢索

主辦單位：深圳技術(shù)大學(xué)   

承辦單位：深圳技術(shù)大學(xué)未來(lái)技術(shù)學(xué)院 

協(xié)辦單位：華中師范大學(xué)、西安交通大學(xué)、江蘇師范大學(xué)

【大會(huì)嘉賓】

大會(huì)主席

劉清俠  深圳技術(shù)大學(xué)講席教授,加拿大工程院院士

梁永生  深圳技術(shù)大學(xué)副校長(zhǎng)

TPC主席

唐定遠(yuǎn)  深圳技術(shù)大學(xué)講席教授

余長(zhǎng)源  香港理工大學(xué)教授   OSA Fellow， IEEE senior member

董波    深圳技術(shù)大學(xué)特聘教授， IEEE senior member

組織委員會(huì)主席

王志忠   深圳技術(shù)大學(xué)特聘教授

黃炳頂   深圳技術(shù)大學(xué)特聘教授

李順樸   深圳技術(shù)大學(xué)特聘教授

更多嘉賓持續(xù)邀請(qǐng)中...

【征稿主題】包括但不限于以下主題：

（1）激光、紅外、太赫茲、光譜、激光探測(cè)、激光雷達(dá)、超快激光技術(shù)、激光制造等激光應(yīng)用類...

（2）光學(xué)與器件、集成光學(xué)與光子學(xué)、光伏技術(shù)、精密儀器、液晶、特種光、發(fā)光材料、光通信、半導(dǎo)體、光學(xué)成像等光學(xué)應(yīng)用/光學(xué)工程類...

（3）光電子技術(shù)、量子光學(xué)、生物光子學(xué)、醫(yī)學(xué)光電子技術(shù)、光學(xué)成像、光學(xué)測(cè)量、環(huán)境光學(xué)與氣候研究、光電圖像、太陽(yáng)能發(fā)電、光電信號(hào)等光電子應(yīng)用類...

（3）物理、材料等相關(guān)光學(xué)交叉主題。如對(duì)主題不確定，可咨詢大會(huì)老師！

【論文出版】

所有的投稿都經(jīng)過2-3位組委會(huì)專家審稿，經(jīng)過審稿之后，所有錄用的論文將由IEEE出版（ISBN號(hào)：979-8-3195-1834-7），見刊后由出版社提交至EI Compendex, Scopus, IEEE Xplore和Google Scholar檢索。

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◆論文最低為4頁(yè)，全英文投稿。如需中→英翻譯：【艾思編譯】 

◆投稿時(shí)最終發(fā)表的稿件以提交word和pdf文檔中的信息為準(zhǔn)，投稿頁(yè)面的“聯(lián)系人方式”為平臺(tái)通知返修、錄用、郵寄論文集的聯(lián)系人信息，非通訊作者。

◆論文應(yīng)具有學(xué)術(shù)或?qū)嵱脙r(jià)值，未在國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)期刊或會(huì)議發(fā)表過，投稿前作者可使用艾思推薦查重系統(tǒng)查重【iThenticate查重】 ，也可通過【Morressier AI檢測(cè)】或其他查重系統(tǒng)查重，文章重復(fù)率不超過30%（含參考文獻(xiàn)部分），否則由文章重復(fù)率引起的被拒稿將由作者自行承擔(dān)責(zé)任。

◆出版社對(duì)文章錄用與否有最終決定權(quán)。

參會(huì)方式

1、作者參會(huì)：一篇錄用文章包含一名作者免費(fèi)參會(huì)；

2、口頭報(bào)告：摘要投稿，時(shí)間為10-15分鐘；

3、海報(bào)展示：申請(qǐng)海報(bào)展示，A1尺寸；

4、聽眾參會(huì)：不投稿僅參會(huì)。也可申請(qǐng)口頭報(bào)告及海報(bào)展示（需提交摘要）。

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